中国芯片生产技术终于突破欧美封锁

近期，网络媒体纷纷热议中微半导体研发的5纳米等离子体刻蚀机，赞誉其功能卓越，并将被应用于全球首条5纳米芯片制程生产线。一时间，我国芯片生产技能似乎打破了欧美封锁，站在了国际技术的制高点，引发了所谓的“弯道超车”的讨论。

中微公司的刻蚀机技术虽一流无疑，但过度夸大其战略意义却遭到了相关专家的批评。刻蚀仅仅是芯片制作过程中的一个环节，而刻蚀机也并非被禁止对华出口的设备，因此并不能算是“卡脖子”的技术。

在这里，我们要明确区分“光刻机”与“刻蚀机”两个概念。光刻机相当于画匠，负责在硅片上投影精密电路图，而刻蚀机则如同雕工，按照电路图进行刻线。尽管两者在芯片制造过程中都扮演重要角色，但技术难度和重要性却有所不同。ASML公司的光刻机在市场上占据主导地位，而刻蚀机的竞争则更为激烈，中微公司只是众多竞争者之一。

一位从事离子刻蚀的专家在接受科技日报记者采访时表示，中微的等离子刻蚀机近年来取得了显著进步。现在的刻蚀机精度已经超越了光刻机的曝光精度，而在芯片制程上，确保在大面积晶圆上的刻蚀一致性是更大的挑战。这需要综合运用材料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学等知识，确保电场和刻蚀气体的均匀分布。

尹志尧博士的团队在刻蚀机的结构规划和资料挑选上投入了大量精力，同时在功率电源、真空体系、刻蚀温度控制等方面也取得了重要进展。专家指出，刻蚀机的技能类型众多，不同厂商之间的技术原理存在较大差异，具体的技能细节是每个厂家的核心机密。

值得一提的是，刻蚀分为湿法和干法两种。湿法主要用于低端产品，而干法则具有高精度、无污染残留的特点，是芯片制造中的主流技术。尹博士及其团队在国际知名半导体设备大厂积累了丰富经验，逐渐在芯片刻蚀机领域保持了与国际同步的技术水平。

一位在IC业界多年的电子工程师张光华向科技日报记者表示，虽然中微研发的5纳米刻蚀机在台积电的使用确实表明其国际领先水平，但称我国芯片实现了“弯道超车”则过于夸张。芯片制造流程复杂，刻蚀只是其中一个环节，我国在大部分工序上仍有待赶超。

中微公司一直反对媒体对其进行过誉报道。尹志尧曾表示，不希望将工业的进展过度政治化，更不希望看到一些媒体为了吸引眼球而发布不实报道。他和中微团队对于外界的夸大宣传感到困扰，希望公众能更理性地看待他们的技术进步。